涂层设备

磁控溅射离子-等离子涂层     

1. 功能：利用磁控溅射离子-等离子技术，材料表面多功能膜制备，纳米结构图层、生物相容性涂层、半导体涂层等。

2. 技术特征：高真空与离子-等离子技术结合；等离子体与带电粒子束磁控管的结合产生具有独特性能的涂层。针对不同目的、不同的体需要改变离子等离子涂层。

3. 应用领域：航空高温材料耐热涂层制备，光学镀膜，纳米科技，医学，电子器件等。

高能束-等离子束制备涂层     

功能：利用等离子技术在材料表面制备多层膜

高能离子注入表面改性设备     

功能：通过离子注入改善材料表面抗腐蚀性、抗摩擦性、耐热性能等。

加速脉冲离子-等离子设备     

1. 功能：材料表面改性，功能膜制备。

2. 技术：脉冲离子加速器结合磁控溅射技术在同一腔内产生高能离子-等离子束，对材料表面镀膜或改性。