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涂层设备

磁控溅射离子-等离子涂层     

1. 功能:利用磁控溅射离子-等离子技术,材料表面多功能膜制备,纳米结构图层、生物相容性涂层、半导体涂层等。

2. 技术特征:高真空与离子-等离子技术结合;等离子体与带电粒子束磁控管的结合产生具有独特性能的涂层。针对不同目的、不同的体需要改变离子等离子涂层。

3. 应用领域:航空高温材料耐热涂层制备,光学镀膜,纳米科技,医学,电子器件等。

 

nanoplasmacoating

 

 

高能束-等离子束制备涂层     

功能:利用等离子技术在材料表面制备多层膜

 

hybridtechbeamplasma

 

 

 

高能离子注入表面改性设备     

功能:通过离子注入改善材料表面抗腐蚀性、抗摩擦性、耐热性能等。

 

Ionbeam

 

 

加速脉冲离子-等离子设备     

1. 功能:材料表面改性,功能膜制备。

2. 技术:脉冲离子加速器结合磁控溅射技术在同一腔内产生高能离子-等离子束,对材料表面镀膜或改性。

 

PlasmaSprayingcoating

 

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